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ACCRETECH(東京精密)的半自動劃片機主要用于將晶圓(Wafer)切割成獨立的芯片(Die),是半導體封裝過程中的關鍵設備之一。下面我為你解釋它的工作原理和核心組件。
半自動劃片機的工作原理可以概括為:通過高速旋轉的金剛石砂輪(刀片),在晶圓的切割道(Scribe Line)上進行精準的磨削切割,同時依靠精密移動的工作臺和冷卻系統保證切割質量和效率。
半自動劃片機的精密操作依賴于以下幾個核心組件的高效協作:
組件名稱 | 功能與特點 | 半自動模式下的應用 |
---|---|---|
主軸系統 | 采用空氣靜壓電主軸,轉速高(通常每分鐘數萬轉),帶動金剛石刀片旋轉進行切割。高精度主軸能確保切割時的穩定性和精度,減少振動帶來的崩邊或損傷。 | 操作員需根據材料和經驗設置合適的轉速。 |
金剛石刀片(刃具) | 切割的執行部件,其上鍍有金剛石磨粒。刀片的選擇(如粒度、結合劑、濃度、形狀)直接影響切割質量和效率。 | 操作員需要根據不同的晶圓材料(如硅、砷化鎵、化合物半導體等)和厚度選擇合適的刀片。 |
精密運動控制系統 | 主要包括X、Y、Z軸運動平臺。X、Y軸實現切割路徑的精確定位和移動(分辨率可達亞微米級),Z軸控制刀片的切入深度。 | 操作員通常需手動或輔助完成初始對刀和定位,設定切割道坐標后,設備可自動按程序完成該區域的切割。 |
視覺對位系統(CCD) | 高倍率攝像頭和圖像處理軟件用于識別晶圓上的切割道(Scribe Line)和光學標記(Mark點),確保切割路徑的精準對準。 | 這是半自動操作的關鍵。操作員可能需要手動尋找第一個標記點,或由系統識別后,操作員確認位置,后續切割道可由設備自動跟蹤完成。 |
冷卻系統 | 切割過程中會產生大量熱量,因此需要冷卻水(通常是去離子水)來冷卻刀片和晶圓,并沖洗切割產生的碎屑,防止污染和熱損傷。冷卻水溫需穩定,以防刀痕偏移。 | 操作員需確保冷卻系統工作正常,并根據工藝需要調整冷卻液參數。 |
承片臺(Chuck Table) | 用于通過真空吸附固定晶圓。通常具有陶瓷微孔吸盤或金屬吸盤,能均勻吸附晶圓,減少切割時的振動和位移,對于薄脆晶圓尤為重要。 | 操作員需將晶圓(通常背面貼有藍膜并安裝在金屬環上)正確裝載到承片臺上并確保真空吸附牢固。 |
“半自動"意味著在切割過程中,需要操作人員參與部分關鍵環節:
人工參與:操作員通常需要負責安裝晶圓、初始對位、選擇切割程序、設置關鍵參數(如切割速度、切割深度、主軸轉速),并在切割后進行檢查。
自動執行:一旦設置完成,設備可以自動完成一條或多條切割道的切割過程,包括按照預設路徑移動工作臺、控制刀片起降等。
這類設備主要應用于:
半導體芯片制造:將完成前端工藝的晶圓切割成單個芯片,用于CPU、存儲器、各種集成電路和傳感器等芯片的封裝前道工序。
光電領域:切割LED、Mini-LED、Micro-LED芯片的晶圓。
微電子機械系統(MEMS):切割敏感的MEMS器件晶圓。
先進封裝:如Fan-Out(扇出型封裝)等需要晶圓級切割的工藝。
總而言之,ACCRETECH東京精密的半自動劃片機通過高速旋轉的金剛石砂輪對晶圓進行磨削切割,依靠精密的運動控制、視覺識別對位和冷卻系統協同工作,最終將晶圓分割成獨立的芯片。其“半自動"特性體現了人機協作,既依賴設備的自動化精度,也離不開操作員的經驗判斷和干預,非常適合研發、小批量多品種的生產場景。